The alarm evaluator: evaluates the alarm condition set by formula, t= he persistence setting, and the pressure excursion filter

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Verifica e Controllo un attrezzo del dispositivo acquaforte del semiconduttore con gas residuo Analisi

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Introduzione<= /span>

I proce= ssi del dispositivo acquaforte del semiconduttore sono challenging a causa del nume= ro di variabili significative. La rilevazione gassosa di contaminazione (RGA) può aiutare l'utente a controllare alcune di queste variabili, compreso la composizione in chimica, contaminazione gassosa ed il prodotto = di reazione.

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Per eff= ettuare automaticamente questa funzione, il sistema host deve avere le informazioni= di dichiarare sufficienti per identificare il punto trattato dell'attrezzo e queste informazioni hanno bisogno di di essere disponibili al motore di log= ica della macchina. L'ospite deve potere identificare l'inizio trattato, i cambiamenti di punto ed il completamento trattato.

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Il disp= ositivo acquaforte del semiconduttore è un esempio dell'applicazione di rile= vazione di contaminazione che richiede un ospite intelligente. Se controlliam= o la camera a vuoto, vedremo le fonti evidenti del cambiamento di chimica. Per esempio, trasferimenti del dispositivo di semiconduttore dall'alloggiamento= del carico. A meno che il sistema comprenda l'attività in corso, la diagnosi corretta è impossibile. Il nostro prodotto (In = Situ Host) divide i periodi tali che le escursioni normali possono essere ignora= te ed i limiti di controllo differenti può essere applicato ha basato sull'attività in corso .

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Il rilevazione gassosa di contaminazi= one lo strumento si trasforma in nel = video dell'attrezzo. L'attrezzo è sorvegliato continuamente per dallo stato di controllo.

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Benef= ici

1. T= empo reale: la maggior parte del controllo processo di processo proget= ta regolarmente la prova l'integrità degli attrezzi trattati, ma ci può essere pericolo significativo negli intervalli fra le qualificazioni. La aggiunta dello strato di prova che controlla continuamente il sistema è un aumento significativo al funzionamento intero.

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2. Riduca il tempo speso sulle qualificazioni: una volta la credibilità e l'affidabilità del video in tempo reale è stabilita, metodi convenzionali di controllo processo di processo diventano meno critiche. La frequenza convenzionale della prova può esse= re ridotta, con un miglioramento generale nella qualità del controllo processo di processo e con meno tempo richiesto per l'attrezzo acquaforte d= el dispositivo di semiconduttore per essere rimosso dal funzionamento normale.=

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3. A= nalisi guasti: L'elaborazione del dispositivo acquaforte del semicondutt= ore è molto complessa. Avere sopra un video di chimica di luogo può aiutare nel risolvere i problemi difficili.

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I benef= ici dal video del dispositivo acquaforte del semiconduttore includono il controllo = in tempo reale, che il tempo morto per la qualificazione può infine ess= ere ridotto e quell'attività d'analisi guasti entra significativamente più in vigore.

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Una mac= china intelligente, ospite capace può contribuire ad impedire i dispositiv= i di semiconduttore, la disponibilità sprecati dell'attrezzo acquaforte d= el dispositivo di semiconduttore di aumento e riduce il tempo medio di riparar= e.

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Esempi

Il proc= esso del dispositivo acquaforte del semiconduttore ha punti multipli con ogni punto = che ha una firma unica di chimica. Un ospite intelligente della macchina = deve potere applicare un modello unico di controllo per ogni punto.

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Un proc= esso incissione all'acquaforte del dispositivo di semiconduttore di esempio ha potuto avere= i seguenti punti: trasferimento del substrato, nuova composizione A in chimic= a, aspett stabilità, alimentazione di radiofrequenza sopra, punto di inizio, nuova composizione B in chimica, incissione all'acquaforte all'ingrosso, nuova composizione C in chimica, punto di completamento incissione all'acquaforte di punto di rilevazione di punto finale (alta selettività).

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È necessario per un'applicazione capace ospite da sincronizzare a questi punti. Per esempio, un modello differente per il punto di trasferimen= to del dispositivo di semiconduttore (punto 1) è richiesto dal modello = per il punto di completamento incissione all'acquaforte (punto 5). <= /o:p>

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Il nost= ro prodotto (In Situ Host) sincronizzerebbe a questo processo control= lando una combinazione dei segnali che controllano l'introduzione dei gas trattat= i e gli obiettivi analog per il gas fluisce. Le possibilità di log= ica tengono conto un modello differente per ogni punto. =

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Il video del dispositivo acquaforte del semiconduttore può essere usato per qualificare efficacemente il processo del sistema.[1]

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Il nostro prodotto (In Situ Host) fornisce la qualificazione completa dell'ambiente trattato della cialda.

Stec= hiometria trattata:

Il gas = trattato ed i prodotti del plasma possono essere misurati e misurati. Misurand= o i prodotti della reazione, la densità di alimentazione del plasma &egr= ave; implicata.

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Ad un l= ivello di circa una parte per milione (1 * 10-6)), il gas trattato può essere = qualificato. Un sistema a Texas Instruments ha sofferto un rifornimento contaminato dell'ossigeno e lo strumento gassoso fissato di rilevazione di contaminazio= ne è stato utilizzato per identificazione del problema. [2]

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Il v= uoto fuoriesce la cun identificato immediatamente. Questa prova non è ridondante con= la prova di tenuta standard. Alcune posizioni della perdita sono esamina= te più efficacemente con uno strumento sul posto gassoso di rilevazione= di contaminazione.

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Per ese= mpio, una perdita nel collettore del gas nella zona con i regolatori di quantit&agrav= e; di flusso del gas è una zona esaminata non completamente mediante tecniche standard. Se la valvola molteplice del gas è chiusa, = o un obiettivo di controllo di flusso del gas è prefiggere a zero, quindi= la prova di tenuta non valuterà il volume isolato.

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Recupero di manutenzione:

Gli att= rezzi del dispositivo acquaforte del semiconduttore richiedono il reattore essere scaricati periodicamente per manutenzione. Durante il recupero, un vi= deo a bordo di chimica può evitare di attendere le molte ore necessarie = per verificare la pressione bassa. Nell'aggiunta, il nostro prodotto (In Situ Host) integra facilmente nel magazzino di dati d= el cliente (completamente COM compliant), permettendo che il risultato gassoso dello strumento di rilevazione di contaminazione sia base di dati esaminata<= span lang=3DIT style=3D'mso-ansi-language:IT'>.

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Per sin= cronizzare lo strumento gassoso di rilevazione di contaminazione al funzionamento dell'attrezzo, dichiari le informazioni deve essere ottenuto. Per que= sta funzione, a suite dei moduli di fissaggi è disponibile per le funzi= oni quale la misura di degassi l'intensità della l= ampada o l'ordine dichiara del In Situ Hosts della capsula di trasferimento.&nb= sp; Il software seamlessly include queste informazioni in i nostri prodotti (In Situ Host) analisi ed insiemi innescare di automazione.

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^[1] B. Bradshaw e T. Schneider, “Verifi= ca e Controllo trattata di deposito di vapore chimico del tungsteno e Etchback c= on analisi residua del gas„, istituto per le scienze ambientali Proceedi= ngs, 1996

^[2] Thomas P. Schneider, Ferran scientifico (attualmente con Cree semi);= ed asta quadra di collegamento J. Taylor, David A. Rothenbury, contrassegno Chavis, coda di todo Hoff e Craig H. Huffman, Texas Instruments,„ = Usando analisi di parziale-pressione per rilevare contaminazione in un riforniment= o ad ossigeno e gas„, micro scomparto 1999.

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